PHI Quantera II 扫描X射线光电子能谱仪（XPS）

产品介绍：

产品名称：PHI Quantera II 扫描X射线光电子能谱仪（XPS）

产品型号：PHI Quantera II

品牌：日本ULVAC-PHI

产地：日本

工作原理：

X 射线光电子能谱（XPS）是材料科学和发展的领域中最广泛使用的表面分析技术。其原理是利用X射线束（一般会使铝阳极或镁阳极）作为入射源，照射在样品表面导致让光电子从原子的核心层被激发出。根据测得的光电子所发出的电子动能，再依照能量守恒定律就可以知道电子的结合能，从而也就可知道样品表面是何物质。

X射线光电子能谱仪（XPS）应用范围：

化学：化学涂料，聚合物，催化剂。

材质：金属，薄膜，纳米材料。

电子：半导体，磁盘，微电子技术和显示技术。

生物医学与生物医学设备。

X射线光电子能谱仪（XPS）优点：

容易使用：无论您是在分析一个薄膜样品、有机聚合物、一个大的塑料镜片，不锈钢刀片又或是焊锡球;所有的仪器设置和设定都是完全相同的。用者只需用鼠标点在一个光学图像单击选择一个或多个分析地区，加上双光束中和系统和自动Z-轴高度调整功能，就可以透过仪器软件的自动队列执行所有分析。整个操作流程不需要任何的设定调整，不用因不一样样品成份而有任何顾虑，甚至也不需要有操作员整天待在仪器旁边；一切的操作都可以自动的完成。

薄膜分析：Quantera II 不仅提供了无机薄膜样本良好的深度剖面分析性能，而且也可以在利用C60离子枪对有机薄膜得出非常优越的深度分析结果。

扫描：PHI使用了独创的聚焦扫描X射线源，使XPS微区分析变得更高效。如图4所示，X射线源是经由聚焦电子光栅扫描并撞击在铝阳极上所产生的，而此产生的聚焦铝X射线会再透过椭球形状的单色器反射在样品表面上。当电子束扫描在铝阳极上时，所产生的X射线束在样品上也会作出同步的扫描。X射线束的直径大小可调范围为7.5微米以下到400微米以上。

微区光谱：在光学显微镜，在这透明的聚合物薄膜表面上是没有发现任何污染物的。但是如以下图５中所示，使用二次电子影像时就立即显示了在聚合物表面上的化污染物的存在。在短短几分钟内，Quantera II仪器就可以利用一个直径为20微米的X射线束得到确定的氟碳污染物。

X射线光电子能谱仪（XPS）特点：

X射线探针≤7.5微米的空间分辨率

高灵敏度的静电检测光学系统

双射束中和系统

自动化的样品传输处理

仪器可容纳最大样品直径为100毫米和25毫米厚

两个的内部样品平台暂停区

高性能的离子枪

高速的深度分析

元素态或化学状的XPS成像

自动角分辨分析